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分析機器以外の設備
【理系複合棟304室】
○遠心分離機
【理系複合棟311室】
○ディープフリーザー VT-78HC(日本フリーザー)
【理系複合棟317室】
○冷却遠心機 6200(KUBOTA)
○オートクレーブ HV-50(平山製作所)
○加熱乾燥機 DO-300(井内盛栄堂)
※ 上記設備をご利用希望の方は、スタッフまで申し出てください。
【理系複合棟304室】
○遠心エバポレータ CVE-3000(Eyela)
○ヒートブロック DigiPREP Jr(SCP SCIENCE)
○ロータリーエバポレーター 1台
操作マニュアル(PDF)
○マッフル炉 KDF S-70(デンケン)
【理系複合棟312室】
○マイクロ波前処理装置 START D(マイルストーンゼネラル)
※ 上記設備については、予約システムにて予約してからご利用ください。
○純水・超純水製造装置(3台、理系複合棟303室、304室、312室)
分析機器一覧
分析機器一覧
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1件
5件
10件
20件
50件
100件
機器名
核磁気共鳴装置 (NMR400MHz) Nuclear Magnetic Resonance
製造メーカー
ブルカージャパン株式会社
規格
AVANCE III NanoBay400
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟103室
導入年
2009年12月
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機器名
核磁気共鳴装置 (NMR500MHz) Nuclear Magnetic Resonance
製造メーカー
ブルカージャパン株式会社
規格
AVANCE III 500
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟103室
導入年
2009年12月
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機器名
電子スピン共鳴装置(ESR) Electron Spin Resonance ※故障中※
製造メーカー
日本電子株式会社
規格
JES-RE3X
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟302室
導入年
2004年4月
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機器名
イオンクロマトグラフ Ion Chromatography(IC)
製造メーカー
サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社
規格
ICS-1600他
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟303室
導入年
2010年03月
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機器名
液体クロマトグラフ (HPLC) High performance liquid chromatography
製造メーカー
株式会社島津製作所
規格
LC-20AD
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟303室
導入年
2007年03月
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機器名
超高速液体クロマトグラフタンデム質量分析計 Mass Spectrometer (ESI・APCI 質量分析計)
製造メーカー
株式会社島津製作所
規格
LC-20AD XR
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟303室
導入年
2009年3月
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機器名
ガスクロマトグラフ (GC-FID) Gas Chromatography-Flame Ionization Detector※廃棄
製造メーカー
株式会社島津製作所
規格
GC-2010
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟303室
導入年
2006年11月
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機器名
ガスクロマトグラフ (ECD) Gas Chromatography-Electron Capture Detector ※廃棄※
製造メーカー
アジレント・テクノロジー株式会社
規格
GC-6890 Series GC
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟303室
導入年
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機器名
ガスクロマトグラフ質量分析装置 Gas Chromatograph Mass Spectrometer (GC-MS)
製造メーカー
株式会社島津製作所
規格
GCMS-QP2010 PLUS
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟303室
導入年
2009年3月
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機器名
原子吸光光度計Z-2010 (AAS) Atomic Absorption Spectrometry
製造メーカー
株式会社日立ハイテク
規格
Z-2010
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟305室
導入年
2009年3月
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機器名
マルチビーズショッカー Multi-beads shocker
製造メーカー
安井器械株式会社
規格
PV1001(S)
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟304室
導入年
2015年1月
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機器名
走査型プローブ顕微鏡 (SPM) Scanning Probe Microscope(SPM)
製造メーカー
日立ハイテクサイエンス(旧 エスアイアイ・ナノテクノロジー)
規格
E-SWEEP
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟309室
導入年
2011年3月
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機器名
3Dレーザー顕微鏡 Color 3D Laser Scanning Microscope
製造メーカー
株式会社キーエンス
規格
VK-9710
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟309室
導入年
2010年1月
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機器名
デジタルマイクロスコープ Digital Microscope
製造メーカー
株式会社キーエンス
規格
VHX-1000
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟309室
導入年
2010年1月
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機器名
イメージングシステム ゲルドック
製造メーカー
バイオラッド
規格
Gel Doc™ XR+ Gel Documentation System
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟309室
導入年
2010年2月
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機器名
加熱気化全自動水銀測定装置 (MA) Automatic Mercury Analyzer by heating vaporization
製造メーカー
日本インスツルメンツ株式会社
規格
MA-3000
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟310室
導入年
2011年3月
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機器名
マルチグレーティング マイクロプレートリーダー (MR) Grating Microplate Reader
製造メーカー
コロナ電気株式会社
規格
SH-9000 Lab形
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟309室
導入年
2011年3月
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機器名
元素分析装置(CHN) Elementary Analysis for Carbon, Hydrogen and Nitrogen
製造メーカー
株式会社ジェイ・サイエンス
規格
JM11
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟310室
導入年
2016年3月
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機器名
元素分析装置(NC) Elementary Analysis for Nitrogen and Carbon
製造メーカー
株式会社住化分析センター
規格
SUMIGRAPH NC-220F
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟310室
導入年
2008年03月31日
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機器名
水質分析計 Water Analyzer
製造メーカー
ビーエルテック
規格
AACSⅢ
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟310室
導入年
2004年4月
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機器名
TOC計 Total Organic Carbon
製造メーカー
島津製作所
規格
TOC-L CPH
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟310室
導入年
2017年3月
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機器名
紫外・可視分光光度計(UV-vis) Ultraviolet and Visible Spectrophotometer
製造メーカー
日本分光株式会社
規格
V-660
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟310室
導入年
2011年1月
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機器名
旋光計 Polarimeter
製造メーカー
日本分光株式会社
規格
P-1010
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟310室
導入年
2005年9月
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機器名
誘導結合プラズマ発光分析装置 Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectroscopy(ICP-AES)
製造メーカー
株式会社島津製作所
規格
ICPE-9000
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟311室
導入年
2008年3月
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機器名
ICP質量分析装置(ICP-MS) Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer
製造メーカー
アジレント・テクノロジー株式会社
規格
7700X
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟311室
導入年
2011年03月
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機器名
燃研式自動ボンベ熱量計 Calorie measurement device
製造メーカー
株式会社島津製作所
規格
CA-4AJ
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟312室
導入年
2010年3月17日
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機器名
エネルギー分散型蛍光X線分析装置(EDX-XRF) Energy dispersive X-ray spectrometry
製造メーカー
島津製作所
規格
EDX-8000
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟318室
導入年
2014年3月
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機器名
卓上顕微鏡(SEM-EDX) Scanning Electron Microscope+Energy Dispersion Spectroscopy
製造メーカー
日立ハイテク
規格
TM3030
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟318室
導入年
2013年10月
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機器名
X線分析顕微鏡 X-ray Analytical Microscope(XGT)
製造メーカー
堀場製作所
規格
XGT-7200
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟318室
導入年
2013年10月
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機器名
波長分散型蛍光X線分析装置 Wave Length-dispersive X-ray Spectroscopy(WDX-XRF)
製造メーカー
株式会社リガク
規格
ZSX PrimusⅡ
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟318室
導入年
2013年9月
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機器名
フーリエ変換型赤外分光光度計(赤外分光光度計) Fourier transform Infrared Spectroscopy(FT-IR)
製造メーカー
日本分光株式会社
規格
FT/IR-6100
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟318室
導入年
2010年2月
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機器名
ガスクロマトグラフ熱伝導度検出器(GC-TCD) Gas Chromatography-Thermal Conductivity Detector
製造メーカー
島津製作所
規格
GC-2014AT
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟302室
導入年
2011年3月
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機器名
α線測定装置 Alpha-ray Detector
製造メーカー
TENNELEC、CANBERRA
規格
TC256(TENNELEC)、TC7401(CANBERRA)
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟309室
導入年
2004年4月
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機器名
Ge半導体検出器(γ線測定装置) Gamma-ray Detector
製造メーカー
CANBERRA
規格
GCW4023、BE2825
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟309室
導入年
2004年4月(GCW4023)、2011年2月(BE2825)
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機器名
粉末X線回折装置 Powder X‐ray diffractometer
製造メーカー
株式会社リガク
規格
RINT ULTIMA/PC
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟320室
導入年
1999年3月
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機器名
単結晶X線構造解析装置(IP検出器) Single crystal X-ray diffractometer with large-area curved IP area detector
製造メーカー
株式会社リガク
規格
R-AXIS RAPID II
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟320室
導入年
2010年1月
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機器名
単結晶X線構造解析装置(CCD検出器) Single crystal X-ray diffractometer with CCD area detector
製造メーカー
株式会社リガク
規格
Saturn 724+
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟320室
導入年
2010年1月
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機器名
実体顕微鏡(偏光装置付) Stereoscopic Microscopy with C-POL Polarizing Attachment
製造メーカー
Nikon
規格
SMZ645
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟320室
導入年
2010年1月
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機器名
実体顕微鏡(偏光装置付)Stereoscopic Microscopy with C-POL Polarizing Attachment
製造メーカー
Nikon
規格
SMZ745
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟320
導入年
2017年7月
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機器名
解析用PC Data Processing PC
製造メーカー
NEC
規格
Mate J ML-G
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟320室
導入年
2019年2月
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機器名
TG-DTA(示差熱・熱重量分析装置)
製造メーカー
株式会社 リガク
規格
Thermo plus EVO2 TG-DTA/H-SL
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟320室
導入年
2018年3月
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機器名
オスミウム蒸着装置
製造メーカー
メイワフォーシス
規格
NEOC-Pro
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟319
導入年
2016年3月
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機器名
デジタルマイクロスコープ Digital Microscope
製造メーカー
株式会社キーエンス
規格
VHX-7000
管理部局
研究基盤センター
部屋番号
理系複合棟309室
導入年
2021年3月
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1件
5件
10件
20件
50件
100件
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